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dc.contributor.author | Borraz Padilla, Héctor Efrén | |
dc.date.accessioned | 2021-09-24T21:12:08Z | |
dc.date.available | 2021-09-24T21:12:08Z | |
dc.date.issued | 2018-06 | |
dc.identifier.issn | 2018001 | |
dc.identifier.uri | http://repositorio.digital.tuxtla.tecnm.mx/xmlui/handle/123456789/2936 | |
dc.description.abstract | El TiO2 es uno de los principales elementos catalizadores para el proceso de fotocatálisis, por sus propiedades particulares este semiconductor que ha sido muy solicitado para estas prácticas. Si bien se estima, su uso ha sido en fotorreactores tipo slurry y ha reportado una gran eficiencia; presentan una gran desventaja muy importante: los fotocatalizadores en polvo suspendidos en el medio a descontaminar sufren procesos de agregación que pueden afectar negativamente la eficiencia y el tedioso filtrado final de las partículas de dióxido de titanio. Por esta razón, esta investigación tiene como objetivo principal determinar la técnica adecuada para la inmovilización y por su resistencia a altas temperaturas, alto grado de cristalinidad, resistencia a la corrosión el sustrato de vidrio en forma de tubos fue la elección. La inmovilización de TiO2 en partículas de 25 y 300 nm se basó en un método llamado dip – coating en el que se le agrego una optimización para remover la solución de los sustratos con una técnica llamada sifón. | es_MX |
dc.language.iso | es | es_MX |
dc.relation.ispartofseries | RESID.PROF;MDRPIQ2018001 | |
dc.subject | degradación | es_MX |
dc.subject | reacción redox | es_MX |
dc.subject | semiconductores | es_MX |
dc.subject | adsorción | es_MX |
dc.title | Adsorción de BTX sobre la superficie de TiO2 (soporte de fotocatalizador) | es_MX |
dc.type | Technical Report | es_MX |